講演抄録/キーワード |
講演名 |
2010-05-20 10:00
誘導結合を用いたプロセッサと複数メモリの三次元集積技術 ○佐圓 真・長田健一・大熊康介(日立)・島崎靖久(慶大/ルネサステクノロジ)・野々村 到(ルネサステクノロジ)・新津葵一・杉森靖史・小浜由範・春日一貴・黒田忠広(慶大) VLD2010-5 |
抄録 |
(和) |
一枚のプロセッサチップと二枚のメモリチップを積層し、それらを誘導結合通信により接続する三次元集積技術を開発した。三次元の通信を小面積かつ低電力で行うためには、チップ間通信距離の削減、及び、通信に関係しないインダクタの誘導電流による信号強度劣化の抑制が、重要な技術課題に挙げられる。そこで、通信距離を削減するワイヤ埋め込み多層積層技術、及び、信号強度を向上させるインダクタ開放制御技術を開発した。通信用の回路およびインダクタの電力は1 pJ/b、面積は0.15mm2/Gbpsである。 |
(英) |
This paper describes a three-dimensional (3D) system integration of a fully functional processor chip and two memory chips by using inductive coupling. To attain a 3D communication link with a smaller area and lower power-consumption, shortening the link distance and preventing signal degradation due to unused inductors are important challenges. Therefore, we developed a new 3D-integrated wire-penetrated multi-layer structure for a shorter link distance and an open-skipped-inductor scheme for suppressing signal degradation. The power and area efficiency of the link are 1 pJ/b and 0.15 mm2/Gbps, respectively, which are the same as those of two-chip integration. |
キーワード |
(和) |
LSI積層 / 誘導結合通信 / プロセッサ / メモリ / / / / |
(英) |
3D system integration / inductive coupling / processor / memory / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 110, no. 36, VLD2010-5, pp. 43-47, 2010年5月. |
資料番号 |
VLD2010-5 |
発行日 |
2010-05-12 (VLD) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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VLD2010-5 |