講演抄録/キーワード |
講演名 |
2007-11-01 11:15
p-InGaAs/i-InGaAs光吸収層を有する高速・高感度フォトダイオード ○村本好史・吉松俊英・児玉 聡・中島史人・古田知史・伊藤 弘(NTT) OCS2007-44 OPE2007-99 LQE2007-85 エレソ技報アーカイブへのリンク:OPE2007-99 LQE2007-85 |
抄録 |
(和) |
p-InGaAs/i-InGaAs光吸収層を有するフォトダイオードは、全光吸収層厚に対して各層厚比を最適化することで通常のPDよりも高い帯域を得ることが可能である。本報告ではその最適化手法を明らかにすると共に、デジタル応用のための40Gbit/s級PDを作製し、光吸収層厚を0.8μmとした素子で受光感度0.98A/W、3dB帯域50GHzの高速・高感度特性を実現した。またアナログ応用のための15GHz級PDを作製し、歪特性について評価した結果、同程度の光吸収層厚を有するpin-PDと比較して良好な線形性と5~10dB以上高い3次インターセプトポイント(IP3)が得られた。これらの結果は、本構造のPDがアナログ応用にも適していることを示している。 |
(英) |
We proposed a new design principle for a photodiode structure that has a depleted InGaAs absorption layer combined with a neutral p-type InGaAs absorption layer. When the total thickness of the absorption layer is constant, the thickness ratio between those two layers has an optimum value to minimize the carrier delay time and yield the highest bandwidth. This optimal structure simultaneously provides the highest efficiency for a required bandwidth. A fabricated photodiode with a 0.8-m InGaAs absorption layer yielded a responsivity of 0.98 A/W and a bandwidth of 50 GHz, demonstrating a superior efficiency/bandwidth tradeoff over a conventional pin photodiode. In addition, the fabricated device exhibited better linearity and 5-10 dB smaller distortion component (IP3), indicating its feasibility for analog applications. |
キーワード |
(和) |
フォトダイオード / 高速 / 高感度 / 低歪み / / / / |
(英) |
Photodiode / High speed / High efficiency / Low distortion / / / / |
文献情報 |
信学技報, vol. 107, no. 302, LQE2007-85, pp. 23-27, 2007年11月. |
資料番号 |
LQE2007-85 |
発行日 |
2007-10-25 (OCS, OPE, LQE) |
ISSN |
Print edition: ISSN 0913-5685 Online edition: ISSN 2432-6380 |
著作権に ついて |
技術研究報告に掲載された論文の著作権は電子情報通信学会に帰属します.(許諾番号:10GA0019/12GB0052/13GB0056/17GB0034/18GB0034) |
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