電子情報通信学会技術研究報告

Print edition: ISSN 0913-5685      Online edition: ISSN 2432-6380

Volume 115, Number 103

機構デバイス

開催日 2015-06-19 / 発行日 2015-06-12

[PREV] [NEXT]

[TOP] | [2012] | [2013] | [2014] | [2015] | [2016] | [2017] | [2018] | [Japanese] / [English]

[PROGRAM] [BULK PDF DOWNLOAD]


目次

EMD2015-11
YAlO3(001)基板表面処理条件の違いによるCr2O3薄膜の結晶成長
○橋本浩佑・隅田貴士・林 佑太郎・福井慎二郎・永田知子・山本 寛・岩田展幸(日大)
pp. 1 - 4

EMD2015-12
ペチーニ法で作製したBi1+xFeO3 (x = 0.0, 0.2)ターゲットおよび パルスレーザー堆積法で作製したBiFeO3薄膜の化学当量性の評価
○王 春・大島佳祐・稲葉隆哲・宋 華平・渡部雄太・永田知子・橋本拓也・高瀬浩一・山本 寛・岩田展幸(日大)
pp. 5 - 9

EMD2015-13
化学気相成長法を用いて作製した単層グラフェンの積層による2層グラフェンの作製と電気特性
○星野 崚・林 佑太郎・今井健太郎・鈴木 希・永田知子・岩田展幸・山本 寛(日大)
pp. 11 - 15

EMD2015-14
大気圧CVD法による酸化スズ及び酸化ガリウムナノワイヤーの成長
○寺迫智昭・倉重利規(愛媛大)・矢木正和(香川高専)
pp. 17 - 22

EMD2015-15
触媒反応支援CVD法によるガラス基板上ZnO膜成長におけるN2O添加初期層の効果
○叶内慎吾・石塚侑己・大橋優樹(長岡技科大)・大石耕一郎・片桐裕則(長岡高専)・玉山泰宏・安井寛治(長岡技科大)
pp. 23 - 27

EMD2015-16
触媒反応生成高エネルギーH2Oビームのノズル開口角依存性
寺口祐介・田島諒一・中村友紀・高橋一匡・玉山泰宏・○安井寛治(長岡技科大)
pp. 29 - 34

EMD2015-17
統計的手法を用いた微摺動機構による電気接点劣化現象解析 ~ いくつかの実験条件下における最小摺動振幅データを用いた統計解析 ~
○越田圭治・和田真一・久保田洋彰(TMCシステム)・澤 孝一郎(日本工大)
pp. 35 - 40

EMD2015-18
金属ガラス薄帯へのアルミニウム薄板の電磁圧接
○相沢友勝(都立高専)・松澤和夫(都立産技高専)・網谷健児(東北大)
pp. 41 - 46

EMD2015-19
異なる電極開離速度におけるAgSnO2接点対による直流負荷電流遮断時のアーク放電特性に関する実験的検討
○長谷川 誠(千歳科技大)
pp. 47 - 50

EMD2015-20
電界誘起光第2次高調波発生法による有機材料中の3次元電界評価
○間中孝彰・岩本光正(東工大)
pp. 51 - 56

注: 本技術報告は査読を経ていない技術報告であり,推敲を加えられていずれかの場に発表されることがあります.


IEICE / 電子情報通信学会