最新のMEMS技術を利用した圧電デバイスに関する国際ワークショップ
International workshop on piezo-devices based on latest MEMS technologies
主催 電子情報通信学会 周波数制御・選択デバイス専門委員会 （委員長 関根好文）
協賛 マイクロマシンセンター
日時：平成19年11月26日（月）～ 11月27日（火）(November 26th (Mon) and 27th
(Tue), 2007)
会場：日本大学理工学部 一号館 (1st Building, Faculty of Engineering Science, Nihon University)
交通：JR中央・総武線「御茶ノ水」駅 下車徒歩３分 (3min. Walk from JR Ochanomizu Station)
東京メトロ千代田線「新御茶ノ水」駅 下車徒歩３分
(3min. walk from Tokyo-Metro Chiyoda-line Shin-Ochanomizu Station)
東京メトロ丸ノ内線「御茶ノ水」駅 下車徒歩５分
(5min. walk from Tokyo-Metro Marunouchi-line Ochanomizu Station)
所在地 〒101-8308 東京都千代田区神田駿河台1-8-14
1-8-14 Kanda-Surugadai, Chiyoda-ku, Tokyo 101-8308, Japan
URL: http://www.cst.nihon-u.ac.jp/access/access.html
November 26th
(Mon), 2007
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Opening Address |
9:10
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K. Hashimoto, Chiba University |
1 |
Importance of International Standardization for Emerging Technologies |
9:30
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A. Izumi, Standardization Office for Information
Technology and Electrotechnology, METI
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2 |
Piezoelectric Thin Film Devices |
9:50
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K. Nakamura, Tohoku University |
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Intermission (10:25-10:35) |
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3 |
RF-MEMS Switches for 5.8 GHz Phase Shifter Application |
10:35 |
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D. Yamane(1), K. Takahashi(1), S. Winston(1), H. Seita(2), S. Kawasaki(2), H. Fujita(1) and
H. Toshiyoshi(1), (1)University of Tokyo, (2)Kyoto University |
4 |
MEMS FBAR R and BD Activities in Korea
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11:10 |
J.Y. Park(1) and M.G. Gu(2), (1)Kwangwoon Univ., Korea, (2)MEMS-Solution, Inc., Korea |
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Lunch Break (12:00-13:20) |
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5 |
A Discussion of Q for FBAR Resonators
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13:20 |
R. Ruby, D. Feld, R. Parker, Avago Technologies, USA |
6 |
High Performance BAW
Technology for Cellular Filter Applications
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14:10 |
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N. Pulsford(1), J.W. Lobeek(1), R. Strijbos(1), A. Jansman(2), and F. Vanhelmont(2)
(1)NXP Semiconductors, the Netherlands, (2)NXP Reserach, the Netherlands |
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Intermission (15:00-16:10) |
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7 |
Considerations Concerning the Next Generation of RF BAW Devices |
15:20 |
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R. Aigner, F. Dumont, A. Volatier and G. Fattinger, TriQuint
Semiconductor, USA
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8 |
BAW Filter Design: Enabling Technology and Techniques |
16:10 |
M. Handtmann, Infineon Technologies AG, Germany |
Social Gathering (17:30-20:00)
November 27th (Tue), 2007
1 |
Standardization Activity of IEC /TC49 in Japan |
9:00 |
Y. Sekine, Nihon University |
2 |
MEMS Standardization Activity in Micromachine Center |
9:20
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K. Ohwada, Teikyo University
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3 |
Si MEMS Resonator and oscillator |
9:40 |
S. Sakurai, SiTime KK |
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Intermission (10:15-10:25) |
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4 |
Integrated Passive Devices for RF-Module |
10:25
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X. Mi, T. Matsumoto, Y. Mizuno
and S. Ueda, Fujitsu Laboratories
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5 |
Investigation of BAW Resonator Structure for High Yielding RF Filters
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11:00 |
A. Isobe and K. Asai, Central Research Lab., Hitachi Ltd. |
6 |
Fabrication of RF BAW Resonators with Single-Crystal LiNbO3 and LiTaO3 Layers |
11:35 |
M. Sakai, T.Tai, Y.Osugi and K. Suzuki, NGK Insulators, Ltd. |
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Lunch Break (12:10-13:10) |
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7 |
Possibility of
Diamond Films for RF SAW/BAW Devices
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13:10 |
S.Shikata(1) and S.Fujii(2), (1)Diamond Research Center, AIST, (2)Seiko Epson, Ltd. |
8 |
Which is Better, SAW Devices or FBAR Counterpart? |
13:45 |
M. Kadota, Murata MFG, Co. Ltd. |
9 |
A Phase-Sensitive and High Speed Laser Probe for RF-SAW/BAW Devices |
14:20 |
K.Hashimoto(1), K.Kashiwa(1), T.Omori(1), M.Yamaguchi(1), O.Takano(2), S.Meguro(2) and K.Akahane(2), (1)Chiba University, (2)Neoark, Co. Ltd. |
10 |
Closing Address |
14:55 |
K. Hashimoto, Chiba University |
【ワークショップの定員】 80名（先着順，定員になり次第締め切りとさせて頂きます）事前登録制
【参加申込締切日】 平成19年10月31日（水）
【申し込み方法】下記の「申し込み Registration (Click here)」より登録してください。
もしくは、折原（日本電波工業㈱）E-mail: oriharay@ndk.comまたはFAX:03-5453-6728にて
申し込みください。（氏名，所属，役職，TEL，E-mailを記載のこと）
【会費】 ワークショップ参加費 一般：20,000円（事前登録），30,000円（当日），
シニア：5,000円，学生，院生：2,000円
懇親会会費： 5,000円
Advance Registration Procedure: please send your name, affiliation, title, telephone number, and e-mail address (capacity: 80 persons maximum, dead line date for advance registration: Wednesday, Oct. 31st, 2007)
Registration Fees: (Advance: 20,000 yen, On-site: 30,000
yen, Senior: 5,000 yen, Students: 2,000 yen)
Banquet Fee: 5,000 yen.
幹事 橋本研也（千葉大），小山光明（NDK），折原康子（NDK）
問い合わせ先 折原康子（日本電波工業），E-mail oriharay@ndk.com TEL 03-5453-6780
Workshop Secretary: K. Hashimoto (Chiba University), M. Koyama (NDK) and Y. Orihara (NDK)
Contact Person: Ms Y. Orihara (NDK) through E-mail: oriharay@ndk.com or TEL: +81-3-5453-6780
TC49 Home Page: http://www.ieice.org/jpn/kikaku/tc49/index.html
★申し込み Registration (Click here)