電子情報通信学会論文誌　VOL.J84-C No.12 December 2001

IT革命に向けたリソグラフィー技術論文小特集

IT革命に向けたリソグラフィー技術論文小特集の発行にあたって…古室昌徳 　1129

解説論文
KrFリソグラフィー技術の現状…中尾修治　徳井　晶　有本一郎 　1132

ArFリソグラフィー技術の現状と展望…羽入　勇　武智　敏 　1142

F2リソグラフィー技術の課題と展望…井谷俊郎 　1150

F2リソグラフィー装置の開発現状…山田雄一　羽田英夫 　1156

EUVリソグラフィー技術開発の現状…西山岩男　小川太郎　岡崎信次 　1162

電子ビームマスク描画装置技術の現状と課題…小笠原宗博　東条　徹 　1171

光マスク製造・検査計測・修正技術の現状…林　直也 　1185

電子ビーム直接描画技術の現状と課題…早田康成　小島義克 　1192

電子線縮小転写リソグラフィー技術の課題と展望
　　　　　　　　　　　　　　…沖野輝昭　鈴木一明　岡本和也　河田真太郎　山口　武 　1200

光ディスクメモリ用リソグラフィー技術の現状…佐野一彦　吉田英博 　1207

特集論文
100nm-node以降デバイスに向けたEB部分一括露光用データ変換システム
　　　　　　　　　　　　　　…星野裕美　荻野宏三　町田泰秀　宮島正明 　1215

解説論文
液晶ディスプレイ用リソグラフィー技術の現状…小澤眞二 　1227

論　　文
〔電磁界理論〕
任意形断面をもつ伝送線路のインピーダンス計算におけるワイヤモデルの適用
　　　　　　　　　　　　　　…松島　章　坂本弘好 　1232

漏れ光導波路のTMモード選択フィルタ特性…大家重明　梅田徳男　張　吉夫 　1241

〔光エレクトロニクス〕
強誘電性液晶を用いた反射型偏光制御素子の設計
　　　　　　　　　　　　　　…小川記由　町田宏介　岡田雄介　中神隆清 　1247

厚さの異なるSiO2キャップを用いたひずみ量子井戸選択的無秩序化による
レーザと受動素子のモノリシック集積化
…島田尚往　福本　豊　上向井正裕　栖原敏明　西原　浩　Anders Larsson 　1257

レター論文
ケルビンプローブ法による導電性高分子／電極界面における電子状態の解明
　　　　　　　　　　　　　　…堀　圭児　多田和也　小野田光宣 　1264

レター論文著者紹介……………… 　1266

レター
FDTD法におけるストリップ導体エッジ部境界処理法の検討
　　　　　　　　　　　　　　…池内　哲　飯田幸雄　中村俊昭 　1267

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英文論文誌紹介（IEICE Transactions on Electronics）…　 1270
平成13年総目次…　 1273
複写される方へ…　 1285
NEWS LETTER　…　 後付