| No |
59888 |
| 標題（和） |
複号機のコントラスト・ポテンシャル |
| 標題（英） |
Contrast Potential in a development zone of a Copying machine |
| 研究会名（和） |
通信方式; 画像工学 |
| 研究会名（英） |
Communication Systems; Image Engineering |
| 開催年月日 |
1994-12-16 |
| 終了年月日 |
1994-12-16 |
| 会議種別コード |
2 |
| 共催団体名（和） |
IEEE東京支部(BT) |
| 資料番号 |
CS94-177 // IE94-109 |
| 抄録（和） |
次に、電位分布の理論式を数値計算し、その結果からコントラスト・ポテンシャルを求める実験式を導出した。その結果、コントラスト・ポテンシャルを増すのに有効なパラメ-タは、バイアス電圧V_B,感光体と現像空間の比誘電率の比ε_, ε_,感光体膜厚L,実効電位V_Rであることがわかった。このうち、実際にコントラスト・ポテンシャルを大きくするのに設計できるパラメ-タはV_R,V_BおよびLである。 |
| 抄録（英） |
The equation to describe the contrast potential was obtained.And numerical analysis and the equation results coincided with each other.It is clearified that the parameters effective for increasing electrostatic contrast have been the bias voltage V_B,ratio of the relative dielectric constant ε_, ε_,photoreceptive film thickness a,and prosecution voltage V_R. |
| 収録資料名（和） |
電子情報通信学会技術研究報告 |
| 収録資料の巻号 |
Vol.94 No.411, Vol.94 No.412 |
| ページ開始 |
99 |
| ページ終了 |
106 |
| キーワード（和） |
数値計算 |
| キーワード（英） |
numerical analysis |
| 本文の言語 |
JPN |
| 著者（和） |
竹内智 |
| 著者（ヨミ） |
タケウチサトシ |
| 著者（英） |
Takeuchi Satoshi |
| 所属機関（和） |
埼玉大学 |
| 所属機関（英） |
Saitama University |
| 著者（和） |
木脇久智 |
| 著者（ヨミ） |
キワキヒサトモ |
| 著者（英） |
Kiwaki Hisatomo |
| 所属機関（和） |
福井工業大学 |
| 所属機関（英） |
Fukui Institute of Technology |
| 著者（和） |
今田寛 |
| 著者（ヨミ） |
イマダヒロシ |
| 著者（英） |
Imada Hiroshi |
| 所属機関（和） |
埼玉大学 |
| 所属機関（英） |
Saitama University |