第6回研究会

主催 シリコン・フォトニクス時限研究専門委員会

委員長：和田 一実　(東大)
副委員長：大橋　啓之　(NEC)

日時 7/19(木)午後1時30分〜午後5時
場所 東京大学　本郷キャンパス 工学部11号館講堂

協賛：光エレクトロニクス（OPE）研究会、フォトニックネットワーク(PN)研究会

チュートリアル・セッション

• 「シリコンフォトニクス集積化技術の現状と展望」
  山田 博仁　教授（東北大学）
  
  
• 「シリコンフォトニクスを支える光・電子デバイス」
  ・「シリコン微小パッシブデバイスの基礎と応用」
  馬場俊彦　教授 (横浜国立大学)
  
  ・「アクティブ・デバイスの基礎と応用」
  深津　晋　准教授 （東京大学）
  

主旨

シリコン・フォトニクス(SIPH)研究会は，シリコンをキーワードとする情報通信フォトニクス分野に関する研究集会です。2004年 9月に新規発足致しました。最近、当該技術領域に関して有望と思しき技術報告が相次ぐ一方で、多様な萌芽的研究の成果蓄積も豊かなものとなりつつあります。シリコン材料に潜むポテンシャルを鑑みつつ、その利活用を視野に入れた情報交換・意見交換・連携模索を、幅広く包括的・複数領域横断的に行うことは時宜を得ているものと考え、そのための場を提供することを研究会の目的としております。
今回はシリコン・フォトニクスの現状および展望を広く紹介することを目的として、大学院生以上の初学者を対象としたチュートリアル・セッションを企画いたしました。

参加申し込み

事前に下記幹事(e-mail：siph-kanji2@mail.ieice.org）まで御連絡頂くと準備の都合上助かります。
当日も会場にて受付いたします。

参加費： 一般2,000円　学生　無料

問合せ

下記幹事までご連絡ください。
最新情報は、随時、ご覧のWEBページに掲載されますので、御注意頂けると幸いです。

幹事

e-mail： ：siph-kanji2@mail.ieice.org
山田　浩治（ＮＴＴ）
川西　悟基 (ＮＴＴ)
一色　秀夫（電気通信大学）