第5回研究会
主催 シリコン・フォトニクス時限研究専門委員会
委員長：和田 一実 (東大)
副委員長：大橋 啓之 (NEC)
日時 1/23(火)午前10時〜午後5時
場所 東京大学工学部11号館講堂
http://www.u-tokyo.ac.jp/campusmap/cam01_04_12_j.html
セッションおよび招待講演
- 「システムサイドからのシリコンフォトニクスに対する期待」
・西村 信治氏（日立中研）
・中田 登志之氏（NEC）
- 「アジアにおけるシリコンフォトニクスの研究動向」
・Prof. Jin Zhong Yu氏 (Chinese Academy of Science)
・Prof. Hon Ki Tsang氏 （The Chinese University of Hong Kong）
・Prof. Jung Hoon Shin氏 （Korea Advanced Institute of Science and Technologies）(予定）
・木村 忠正 教授 (電気通信大学)
- 「シリコンフォトニクスの研究最前線」
・斎藤 慎一氏（日立中研）
プログラム,
日本語English
主旨
シリコン・フォトニクス(SIPH)研究会は，シリコンをキーワードとする情報通信フォトニクス分野に関する研究集会です。2004年 9月に新規発足致しました。最近、当該技術領域に関して有望と思しき技術報告が相次ぐ一方で、多様な萌芽的研究の成果蓄積も豊かなものとなりつつあります。シリコン材料に潜むポテンシャルを鑑みつつ、その利活用を視野に入れた情報交換・意見交換・連携模索を、幅広く包括的・複数領域横断的に行うことは時宜を得ているものと考え、そのための場を提供することを研究会の目的としております。
一般講演募集
下記要領に従い一般講演論文を募集致しますので、奮って応募されますようお願い致します。
技術分野：シリコンとフォトニクスをキーワードとする情報通信技術分野全般を対象とします。
1. 材料・構造・物理
2. デバイス・光集積
3. コネクション・伝送・ネットワーク
4. エレクトロニクス・画像
5. その他
一般講演申込
著者、所属、講演題目、アブストラクト（100字以内）、連絡先を下記幹事（ e-mail：siph-kanji2@mail.ieice.org）までお知らせ下さい。
講演申込締切：2006年12月27日(水)
予稿原稿締切：2007年1月12日(金）
講演予稿の形式は、講演申込みを頂いた方に別途ご連絡します。
参加申し込み
事前に下記幹事(e-mail：siph-kanji2@mail.ieice.org）まで御連絡頂くと準備の都合上助かります。
当日も会場にて受付いたします。
参加費： 一般3,000円 学生2,000円
懇親会費： 1,000円
問合せ
下記幹事までご連絡ください。
最新情報は、随時、ご覧のWEBページに掲載されますので、御注意頂けると幸いです。
幹事
e-mail： ：siph-kanji2@mail.ieice.org
山田 浩治（ＮＴＴ）
川西 悟基 (ＮＴＴ)
一色 秀夫（電気通信大学）