シリコンを基盤材料とする情報通信フォトニクスについて、萌芽的研究成果の蓄積が豊かなものとなりつつある昨今、有望と思しき技術報告も相次いでいる。シリコン材料に潜むポテンシャルを鑑みる時、当該領域をカバーする第2種研究会の設立は時宜を得たものと考える。シリコン情報通信フォトニクス技術の利活用を視野に入れた情報交換・意見交換・連携模索を、幅広く包括的・複数領域横断的に行うことを目的に、委員会・研究会を開催し、また、関連する国際会議の誘致開催に寄与するなど、この分野の発展に貢献すべく活動する。

活動計画

研究会と専門委員会をそれぞれ年2回程度開催し、海外との交流も積極的に行う。関係組織に連携と協力を仰ぎ、シリコン・フォトニクスに興味を持つ産学官の方々に積極的に参加頂く。実用化を目標に据える螺旋形態の議論を活発に行いつつ、新しい展開を追求する議論を行う。小規模委員会構成としスタートするが、「来る者は拒まず」の方針の下、開放的委員会運営を行う。

研究分野

シリコンとフォトニクスをキーワードとする技術分野全般を対象とするが、便宜上以下4領域に区分する。

1. 材料・構造・物理
2. デバイス・光集積
3. コネクション・伝送・ネットワーク
4. エレクトロニクス・画像

設置機関

第一期　平成16年9月から平成18年8月まで（2年間）

第二期　平成18年9月から平成20年8月まで（2年間）

第三期　平成20年9月から平成22年8月まで(2年間)

英文名称（英文略称）

Silicon Photonics (SIPH)